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第四百五十六章:竞争与进步(2/2)

而且由于光刻精度是几纳米,euv对光的集中度要求极高,相当于拿个手电照到月球光斑不超过一枚硬币。

反射要求镜子长30且镜面的起伏不到03纳米,这相当于是燕京到沪上做根铁轨起伏不超过1毫米。

所以euv不仅是顶级科学的研究,也是顶级精密制造的学问。

一台euv光刻机重达180吨,其中超过了10万个零件,需要四十个集装箱运输,安装调试都要超过一年时间,可以说真的是没有一定的技术储备,设计图纸给你你都造不出来。

其实euvllc联盟早在1997年便已经成立,在97年到03年的六年间,euvllc的科学家发表了几百篇论文,验证了euv光刻机的可行性,然后euvllc联盟解散。

虽然说是解散但是实际上不过是移交到了阿斯麦手里,阿斯麦几乎是全部继承了euvllc联盟关于euv光刻机方面的知识,而现在英特尔重新号召不过是为了加大投入想要抢先一步研制出来,毕竟以前没有对手完全可以慢慢来,但是现在有了对手出现,在慢慢发展显然不可行了,就像当初美苏冷战的军事竞赛一样,科技简直是迅猛发展航天就是在当时的背景下迅速进步的。

而就在eucllc讨论如何解决光源问题得到时候,华夏突然宣布,将kbff晶体列为战略资源,不再对外出口。

asl:

英特尔:

apc:
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