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第459章 首台EUV光刻机(1/4)

一晃眼,2013年翻篇了,日子来到2014年。

硅谷的天气挺好,阳光明媚。

但全世界科技圈的大佬们,这会儿全在办公室里愁得揪头发。

出大事了。

而且是物理学层面的绝望大事。

全球半导体产业,这辆在摩尔定律的高速公路上狂飙了几十年的超级跑车。

突然砰的一声,撞上了一堵看不见的水泥墙!

集体卡壳了!

这堵墙的名字,叫14纳米物理极限。

啥意思呢?

简单来说,造芯片就是在指甲盖大小的硅片上画图。

你要在上面画出几千万、几十亿个晶体管。

画图得用笔吧?

半导体行业画图的笔,叫光刻机。

现在全世界最牛逼的光刻机,是dUV,也就是深紫外光刻机。

这玩意的光源波长是193纳米。

前些年,芯片工艺从90纳米、65纳米一路往下缩。

大家还能靠着在镜头里灌水、搞多重曝光这些花活儿,硬撑着把线条画细。

就好比你手里拿着一支粗马克笔,非要在米粒上写字。

你小心翼翼地描,勉强还能对付。

但是现在!

芯片制程推进到了14纳米这个变态的节点!

这就好比让你拿着一把扫帚,去画一幅清明上河图!

dUV光刻机,彻底达到了物理极限!

画不出来了!

光线太粗了,晶体管挤在一起,直接互相干扰,漏电漏得一塌糊涂。

芯片一通电,哧溜一下,直接烧成了电烤炉。

良品率低到让人想跳楼。

这下子,全球的科技巨头全傻眼了。

各大巨头的研发部门,直接宣告停滞!

首当其冲的,就是美国的芯片老大哥,英特尔。

他们以前最爱吹牛逼的tick-tock钟摆战略。

也就是一年升级架构,一年升级制程。

现在直接成了业界笑话。

研发工程师们天天熬夜掉头发,拿出来的报告全是死路一条。

“老板,真做不出来了,物理学不允许啊!”

英特尔的股价,在华尔街直接走出了一个跳水曲线,动荡不安。

不止英特尔。

苹果总部,库克看着桌子上的A系列自研芯片规划书,也是满脸铁青。

iphone马上要换代了。
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